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20世纪60年代的洁净工程在美国、欧洲等发达国家顺应各行各业产品生产和科学实验活动的需要得到了广泛应用,可以认为是洁净工程的大发展时期。美国在1961年诞生了国际上早的洁净室标准即美国空程条令203,并把编制联邦***标准的任务交给了原子能的出版机构;1963年底颁布了个部分的联邦标准即FS-209,从此联邦标准"209"就成为国际通行的、的洁净室标准; 1966年颁布了修订后的FS-209A,1957年前苏联颗人造上天后,美国***加速发展宇航事业、精密机械加工和电子工业,这些都要求具有受控空气洁净的生产环境,从而带动洁净工程及其设备制造的大发展,1961年单向流洁净工程和100级洁净室的建立,更促进了洁净工程的进一步发展。
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洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,工厂空气净化工程报价,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,工厂空气净化工程,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,工厂空气净化工程公司,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。
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